圖源：Pixabay

撰文丨謝浩 陳芝超

編輯丨 蘇揚

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美國對中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“卡脖子”的關(guān)鍵繩索，在2024年開年之際，悄然落下。

當?shù)貢r間1月1日，荷蘭光刻機巨頭ASML發(fā)布聲明稱，荷蘭政府已于近期部分吊銷了向中國大陸出口部分芯片制造設(shè)備的許可證，涉及設(shè)備型號為NXT:2050i和NXT:2100i光刻系統(tǒng)，并遺憾表示“可能會對少數(shù)客戶帶來影響”。

少數(shù)客戶是誰，影響范圍可能有多大？ASML沒有答案。

由于更先進的EUV光刻設(shè)備早在2019年被禁運，此次被限制出口的2050i，2100i基本上可以視作當前最先進的一批DUV光刻機型號，廣泛應(yīng)用于40nm以下的制程產(chǎn)能中，對應(yīng)28nm、14nm、10nm、7nm四個主要制程節(jié)點。

作為1980di機型的升級版，2050i，2100i同屬采用193nm波長光的浸潤式光刻設(shè)備，借助多重曝光等技術(shù)，具備生產(chǎn)7nm制程芯片的能力，理論上能夠生產(chǎn)5nm制程芯片。

ASML的DUV光刻機產(chǎn)品對比，2100i基本可視為當前最先進的一批型號

來源：硅基研究室制圖

過去，針對EUV的封鎖，更多是“威懾意義”。現(xiàn)在，對眼前這批DUV設(shè)備的禁運，起到的效果無疑要更為直觀——包括成熟制程和部分先進制程在內(nèi)的40nm以下的晶圓制造，也被“卡脖子”。

正如部分業(yè)內(nèi)人士所總結(jié)的那樣，EUV設(shè)備即便是敞開賣給中國大陸，基于當前在設(shè)計、制造、封裝、測試環(huán)節(jié)的綜合產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀，也沒有能力量產(chǎn)3nm芯片，而這批DUV設(shè)備的禁運，則恰好正是國內(nèi)芯片產(chǎn)業(yè)能夠“努努力夠到”的區(qū)間。

此前，華為旗艦Mate 60搭載麒麟9000S亮相，就曾引發(fā)外界種種猜測，各方拆解評測的結(jié)果顯示其綜合性能處于驍龍888（三星5nm）和驍龍8 Gen1（三星4nm）之間，和蘋果A13（臺積電7nm+）相仿。保守估計，國內(nèi)晶圓代工產(chǎn)業(yè)，已經(jīng)事實上具備量產(chǎn)等效7nm制程芯片的能力，只不過結(jié)合對市場供給的表現(xiàn)推斷，這些先進工藝芯片的產(chǎn)能還在爬坡之中。

更進一步，相比于產(chǎn)能擴張層面的顯性影響，更大的影響可能在于戰(zhàn)略層面——先進光刻系統(tǒng)的禁運，將帶動上下游產(chǎn)業(yè)鏈集體“去美化”，只是中國芯片制造業(yè)必須要把各個制程節(jié)點和產(chǎn)業(yè)環(huán)節(jié)“重走一遍”，因此要付出巨大的經(jīng)濟代價和時間成本。

有業(yè)內(nèi)人士向硅基研究室透露，“這次美國主導(dǎo)的新規(guī)是把限制延伸到了14nm以下用的ArF DUV，所以2000系列才會被禁。目前來看國內(nèi)絕大部分項目都是28nm及以上成熟制程，是不會受影響的。倒是部分在美國實體清單上的客戶今后1980都可能拿不到，這才是真正影響?！?/p>

“丟掉幻想，準備戰(zhàn)斗”

過去，芯片產(chǎn)業(yè)自身的不透明性和高技術(shù)門檻，造成了真假參半的各類消息充塞輿論場，也一度影響了市場和公眾對于芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展的認知，并帶來了諸多不切實際的“誤判”，包括但不限于：

· ASML公司有辦法不遵守或是繞開禁令，繼續(xù)為中國輸送光刻設(shè)備

· 摩爾定律可能會在未來停滯，中國芯片代工產(chǎn)業(yè)有大把的時間反超臺積電和三星

從政策層面來看，期待ASML的“友誼”或是芯片禁令的轉(zhuǎn)機能夠幫助中國芯片產(chǎn)業(yè)度過難關(guān)，無疑是“天方夜譚”，這并不是因為ASML“不夠哥們”。與之相反，不少業(yè)內(nèi)人士均向“硅基研究室”表明，在芯片禁令的執(zhí)行層面，ASML已經(jīng)“仁至義盡”。

一年前，針對美日荷三國達成的限制中國先進設(shè)備出口協(xié)議，ASML CEO溫寧克就曾在公開場合予以隱晦的否定：“你給中國施加的壓力越大，他們就越有可能加倍努力打造可以媲美ASML的光刻機?！?/p>

而在實際行動中，基于商業(yè)的考量，ASML也在努力配合中國大陸客戶的要求，在禁令生效之前，努力“搶運”光刻機。

公開資料顯示，僅2023年10月，中國大陸從荷蘭進口的光刻機數(shù)量就高達21臺，總價值6.725億美元，此后的11月，中國大陸又進一步進口了42臺光刻設(shè)備，總價值高達8.168億美元。其中有16臺光刻機是來自荷蘭，總價值7.627億美元。

來自ASML的三季度財報也顯示，來自中國大陸的銷售收入占比由已經(jīng)從一季度的8%和二季度的24%，翻倍增長到了46%。無外乎部分業(yè)內(nèi)人士感慨稱ASML還算“夠朋友”：

“光刻設(shè)備作為高度客制化的機型，幾乎不存在庫存，按照傳統(tǒng)慣例，廠商都是收到三四成所有的預(yù)付款才會開始動工?！苯Y(jié)合2023年下半年這么大規(guī)模的出貨量來看，ASML顯然將光刻機產(chǎn)能中的很大一部分都調(diào)配給了中國客戶。

ASML在機場轉(zhuǎn)運DUV機臺， 轉(zhuǎn)運過程全程監(jiān)控設(shè)備的溫度、震動系數(shù)等數(shù)據(jù)

來源：ASML

ASML還算“夠朋友”還體現(xiàn)在后續(xù)的產(chǎn)品服務(wù)上，一位不愿透露姓名的消息人士表示，即便是對于已經(jīng)售往中國大陸的先進光刻機，在面臨美國的軟件、零部件斷供壓力時，ASML仍在盡力延長技術(shù)人員在華的停留時間，配合售后服務(wù)。

不過，不同于掌握芯片設(shè)計絕對話語權(quán)的英偉達，能以“特供AI芯片”繞開監(jiān)管措施，ASML光刻機的零部件高達10萬個，分別來自全球超過5000家供應(yīng)商，其中最核心的光源，尤其是EUV光源，幾乎完全是由美國公司西盟（Cymer）所壟斷，即便次一級的DUV光源，雖然日本和中國的部分企業(yè)在不懈攻關(guān)，但距離ASML的標準仍有差距，這也是美國有信心展開“長臂管轄”的根源所在。注：Cymer已于2013年被ASML收購，目前已經(jīng)是ASML全資的子公司

從這個角度來說，伴隨著新一輪禁令的落地，將中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展過度押注在ASML“繞開封鎖”上，無疑并不現(xiàn)實。畢竟，此輪禁令并不是突發(fā)事件，也不是終點，而是自“芯片法案”之后，美國推動與中國科技產(chǎn)業(yè)脫鉤的其中一環(huán)。

從2022年開始，美國連續(xù)推出的芯片法案，出口限制法案，均意在拉攏日荷，共同針對中國大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。為此，2023年1月，美國、日本、荷蘭達成對華先進半導(dǎo)體生產(chǎn)設(shè)備的出口管制協(xié)議，按照這份協(xié)議，針對波長193nm、分辨率小于45nm的DUV設(shè)備，只要包含受控物項超過0%，就受美國管制。隨后，日本限制23種高性能半導(dǎo)體制造設(shè)備出口的管制令于7月23日生效；荷蘭限制光刻機等半導(dǎo)體設(shè)備和技術(shù)的出口管制，則選擇了9月1日作為生效節(jié)點。

今天擺在中國晶圓代工企業(yè)面前的這份“2050i，2100i”設(shè)備禁令，正是荷蘭政府本該于去年9月1日落地的那份管制協(xié)議，在多方斡旋之下，不斷推遲、豁免至今的結(jié)果。

類似的，后面所提到的“摩爾定律停滯”，同樣也是非專業(yè)人士的“美好幻想”。

摩爾定律預(yù)測集成電路上的晶體管數(shù)量 每24個月增加一倍， 上圖對應(yīng)當年最先發(fā)布的芯片產(chǎn)品。丨來源：網(wǎng)絡(luò)

理論上，芯片的“制程”不能無限制縮小，這是由芯片的最小電路蝕刻寬度——“線寬”所決定，線寬越窄，單位面積所能刻蝕的晶體管數(shù)量就越多，芯片性能自然也更強。而一節(jié)電路要想正常通電，至少也需要維持在百十個原子的寬度，這意味著芯片的“線寬”很難在突破“納米級”之后，繼續(xù)向下推進。

但線寬工藝的停滯，并不代表摩爾定律的衰亡。

伴隨著技術(shù)的進步，當下芯片制程對摩爾定律的推進，早已不再依賴“線寬“指標的提升。業(yè)內(nèi)資深建廠工程師向“硅基研究室”透露，芯片產(chǎn)業(yè)的線寬從28nm制程之后，就基本沒有再提升，但是這并未妨礙這段時期，摩爾定律繼續(xù)向前推進。長達十余年的時間里，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在嘗試用更先進的架構(gòu)，來立體化堆疊晶體管，并最終轉(zhuǎn)化為“等效制程”的工藝，為摩爾定律“續(xù)命”。

換句話說，所謂的3nm芯片，并不是指芯片的最小線寬達到了3nm，而是借助架構(gòu)和工藝的提升，實現(xiàn)了“同3nm芯片一樣的能效”。

目前，包括臺積電、英特爾等半導(dǎo)體企業(yè)，已經(jīng)紛紛更新了新制程的立項。12月14日，臺積電在IEEE國際電子器件會議上透露，1.4nm級制造技術(shù)已經(jīng)開始研發(fā)，名為14A，目前進展順利，預(yù)計將于2027年-2028年之間量產(chǎn)。

資深芯片專家、《芯片簡史》作者汪波此前曾提到，“摩爾定律不僅僅是一個單純的技術(shù)定律，也是一個關(guān)于人的信心和希望的定律，回顧芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展歷史，只要年輕人永遠敢于打破常規(guī)，積極創(chuàng)新，摩爾定律的腳步就不會停下?！?/p>

“摩爾定律”看不到衰退跡象，對手們不會停下來等待中國芯片制造的追趕。從這個角度來說，比起相信惡劣的外部環(huán)境會在未來有所好轉(zhuǎn)，“丟掉幻想，準備戰(zhàn)斗”，或許才是國產(chǎn)芯片行業(yè)未來數(shù)十年的常態(tài)化主題。

不存在“落后產(chǎn)能”

打造自主晶圓代工體系，類似的“戰(zhàn)斗”，事實上早在數(shù)十年前就已經(jīng)全面鋪開。

國際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會（SEMI）公布的數(shù)據(jù)顯示，今天，來自中國大陸的晶圓月產(chǎn)能已經(jīng)高達760萬片，這一數(shù)字占據(jù)了全球半導(dǎo)體產(chǎn)能的25.6%，這基礎(chǔ)上，2024年，中國大陸半導(dǎo)體產(chǎn)能還將繼續(xù)以13%的增長率領(lǐng)跑全球。

龐大的產(chǎn)業(yè)規(guī)模是中國芯片制造的A面，“大而不強”、“耗費巨大”是它的B面，也是持保守態(tài)度的業(yè)內(nèi)外人士詰難的核心。

部分芯片業(yè)內(nèi)人士就曾告訴“硅基研究室”，由于技術(shù)封鎖，中國芯片不得不采取完全違背市場規(guī)律的方式，從設(shè)計、制造、封裝、測試環(huán)節(jié)大量補貼，耗費巨大的同時，也造成了芯片行業(yè)目前學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界的認知割裂。

“我們像下餃子一樣布局晶圓工廠，但由于產(chǎn)業(yè)上下游的弱勢，很多工廠的制程還比較落后，國產(chǎn)化率和良率也沒有保障?！?/p>

與之相對的是，過去相當長一段時間，部分企業(yè)和輿論傳達給公眾的是“喜報連連”，從設(shè)備到技術(shù)層面，均有著“重大突破”。

種種“突破”的背后，什么才是中國芯片產(chǎn)業(yè)目前的真實現(xiàn)狀？新的光刻機禁令生效后，2024年，我們還需不需要DUV光刻機？中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)又是否需要繼續(xù)下單、建廠、擴產(chǎn)？

回答上述問題，還是要從半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展軌跡中去尋覓。

宏觀層面，科技與戰(zhàn)略風(fēng)云學(xué)會會副會長陳經(jīng)認為“芯片產(chǎn)業(yè)仍然沒有跳脫出工業(yè)和科技的范疇，這也意味著只要愿意砸錢下功夫，就一定能搞出來?！碑吘?，昔日的地區(qū)，在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)起步上的“一窮二白”，要比大陸半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)“猶有勝之”。

微觀層面，市場也要認識到，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)在設(shè)備研發(fā)上要面臨的重重困境——一臺EUV光刻機的關(guān)鍵研發(fā)過程，可以幫助人們更清晰的感受這一產(chǎn)業(yè)的技術(shù)門檻：

美國Cymer公司在經(jīng)歷無數(shù)次失敗后，才獲得波長13.5nm的極紫外光源；為了保證光源功率，需要保證鏡面的平整度，ASML研發(fā)了一種特殊的鏡子，平整度也令人咋舌——將鏡面放大到云南省的大小，表面的平整度相差也不超過1毫米。

在解決了數(shù)十萬個零部件帶來的層出不窮的技術(shù)難題后，ASML終于研發(fā)出第一臺EUV光刻機，單臺成本高達2億美元，這些光刻機的部件在交付客戶的時候，不得不依靠4架波音747飛機實現(xiàn)運送。在運抵晶圓廠后，經(jīng)歷上百名工程師的反復(fù)安裝和調(diào)試，才能開始試制作樣品，而每一代光刻機從第一批樣品，到最后具備高良率的量產(chǎn)能力，往往又需要2-3年不等的時間。

Intel接收高數(shù)值孔徑EUV部件， 可覆蓋2nm制程工藝。

來源：Intel

《芯片》一書的作者、塔夫茨大學(xué)弗萊徹學(xué)院國際歷史副教授克里斯·米勒這樣總結(jié)芯片產(chǎn)業(yè)發(fā)展：“半導(dǎo)體制造工廠——晶圓廠，是世界上最昂貴的工廠，今天，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)正在進行著人類有史以來最復(fù)雜的制造過程。”

從這個角度來說，期待中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)逆轉(zhuǎn)周期，在短時間內(nèi)接連取得重大技術(shù)突破，乃至于在制程上有所領(lǐng)先，都是違背產(chǎn)業(yè)規(guī)律的。

即便是全球過往的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，也是建立在美日荷和中國地區(qū)的高度分工化和官方補貼的基礎(chǔ)上。某種意義上，中國對芯片產(chǎn)業(yè)的追逐，等于把一部芯片產(chǎn)業(yè)的70年的全球史，用20年甚至更短的時間壓縮完成，難度和挑戰(zhàn)可想而知。

而在這一過程中，中國芯片產(chǎn)業(yè)最缺乏的還不是光刻機，而是上下游的產(chǎn)業(yè)鏈和人才。畢竟，沒有光刻機，中國芯片企業(yè)只是造不出最先進的芯片，而上下游產(chǎn)業(yè)鏈企業(yè)的缺乏，則導(dǎo)致了整個產(chǎn)業(yè)在后續(xù)的禁令中，面臨“跛腳”的風(fēng)險。

這也是為什么，即便是向ASML購入NXT:1980i等型號，繼續(xù)上馬40nm這樣的外界眼中的“落后產(chǎn)能”，在多位資深從業(yè)者看來也有必要。

一方面，光刻系統(tǒng)沒有所謂的“落后制程”。

光刻機之間，先進的和落后的型號之間不是相互替代的關(guān)系，而是協(xié)同關(guān)系，在臺積電的生產(chǎn)過程中，7nm、5nm芯片并不是完全由EUV來制作，而是兩種機型交替合作，其中，7nm的80層光罩里，由EUV完成的僅有12層，剩下的68層均是借助DUV曝光，5nm節(jié)點下的100層光罩里，由DUV機型負責(zé)曝光的比率，也高達78%。

相比之下，目前國產(chǎn)光刻機能達到的理想水平在28nm左右，其國產(chǎn)化率和良率在短期內(nèi)也無法得到保證，暫時還不足以完成對前者的完美替代。注：NXT:2000以上系列的浸潤式DUV光刻機在海外EUV不受限的晶圓廠，一般會用到7nm以下來配合EUV生產(chǎn)先進工藝芯片，中國大陸的foundry也主要用來做10nm以下工藝，14nm以上成熟工藝主要是采用NXT:1980光刻系統(tǒng)。

另一方面，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)也沒有所謂的“落后產(chǎn)能”。

公開數(shù)據(jù)顯示，2023年到2027年，全球晶圓代工成熟制程（28nm以上）和先進制程（16nm以下）的產(chǎn)能比重預(yù)計將維持在7∶3，這意味著，在高性能芯片頻出的當下，全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中，40nm和28nm制程仍然能滿足近7成產(chǎn)品需求。

中芯國際臨港12英寸晶圓代工生產(chǎn)線丨來源：芯智訊

在這基礎(chǔ)上，中國芯片產(chǎn)業(yè)更是需要源源不斷的開工生產(chǎn)，來不斷“練兵”，激活上下游的需求，實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)的協(xié)同發(fā)展。

正如一位業(yè)內(nèi)資深人士所說的那樣：

“全球各地的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，最開始的技術(shù)、工藝都很差，要到第二代第三代積累了經(jīng)驗，才會好起來，在被封鎖的當下，只有繼續(xù)買這些‘用不到’的光刻機增擴產(chǎn)能，才能讓上下游的企業(yè)都獲得訂單，有充足的資金去繼續(xù)推進下一代?！?/p>

從這個角度來說，芯片禁令的確會極大的消耗時間和資源，但這并不代表DUV產(chǎn)能是一種“累贅”，恰恰相反，未來，中國芯片業(yè)只會需要越來越多的DUV產(chǎn)能，在世界半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的長河中韜光養(yǎng)晦，保持前行。

光刻是最優(yōu)解，不是唯一路徑

比起“落后制程”帶來的資金浪費，“落后認知”才是真正影響半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展，帶來巨大靡費的隱患所在。

前文提及的資深建廠工程師就曾向“硅基研究室”表示，半導(dǎo)體行業(yè)的學(xué)術(shù)界和產(chǎn)業(yè)界存在著一定程度的“割裂”，很多人習(xí)慣于用“軍工產(chǎn)業(yè)”的思維來看待半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)。

“半導(dǎo)體不是原，不是有沒有的區(qū)別，而是商業(yè)產(chǎn)業(yè)，要做好成本控制。”

事實上，先進制程光刻系統(tǒng)的研發(fā)只是企業(yè)要解決的諸多問題之一。按照浸潤式光刻的發(fā)明者、臺積電技術(shù)專家林本堅博士的設(shè)想，即便是傳統(tǒng)的40nm、28nmDUV光刻機，借助浸潤式、鏡頭改進、OPC補償、多重曝光等技術(shù)提升，也可以滿足7nm甚至5nm的制作需求，但帶來的低良率和低產(chǎn)能，才是全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)放棄這一技術(shù)路線，轉(zhuǎn)向EUV技術(shù)的關(guān)鍵。

按照光源類型，光刻機可分為UV、DUV、EUV丨來源：硅基研究室制圖

“同樣的7nm芯片，用EUV跑，可能只需要40遍就能跑完，用DUV跑，可能需要90多遍，再算上產(chǎn)能的差距，相較于單純用DUV來生產(chǎn)，EUV在芯片成本上大概優(yōu)化了3倍?！?/p>

戰(zhàn)略咨詢專家余盛在《芯片》一書中，也曾反復(fù)強調(diào)過“良率”和“產(chǎn)能”這兩項指標無與倫比的重要意義。

對于芯片制造業(yè)來說，良率就意味著成本，產(chǎn)能就意味著時效。以蘋果和臺積電的合作為例，后者的良率表現(xiàn)，將直接影響蘋果為芯片代工支付的成本，進而影響企業(yè)的毛利，甚至產(chǎn)品的最終定價，而產(chǎn)能的高低，則決定了蘋果新品可以在多長時間內(nèi)備足庫存，從而大幅領(lǐng)先競爭對手發(fā)布新品。

某種意義上，正是源于臺積電在這兩項指標上的卓越表現(xiàn)，才換來了蘋果的長期認可和訂單。

業(yè)內(nèi)人士透露，即便是ASML那些躺在世界各地工廠里好幾年的老舊型號光刻機，也依然有著大量的工程師在對其進行效率和生產(chǎn)環(huán)節(jié)的不斷優(yōu)化，“絕大多數(shù)的DUV和EUV光刻機，每年軟件代碼的行數(shù)都在不斷的增加。”

相比之下，公眾輿論對于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的技術(shù)研發(fā)，則部分停留在“做出來”這一層面，只要相關(guān)技術(shù)達到指標，可以通過驗收即可，至于后續(xù)的生產(chǎn)、應(yīng)用、調(diào)試，往往缺乏關(guān)注。這樣的產(chǎn)品和技術(shù)，用于提升國產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的制造水平，未免離題萬里。

這也是為什么，包括汪波在內(nèi)的諸多從業(yè)者都認為，來自西方的科技制裁封鎖，也是一次對國內(nèi)制造產(chǎn)業(yè)鏈的“重新梳理”和“進化倒逼”：

“一方面就是逼著我們繼續(xù)去把制造的問題解決了，另外一方面就是去探索新的方向。目標是唯一的，但是實現(xiàn)的路徑、方法可能有多種多樣的，并不唯一。現(xiàn)在EUV是其中一種方法，但除此之外，還有許多技術(shù)路線?！?/p>

汪波告訴“硅基研究室”，納米壓印，是其中的一種可選項，盡管替代EUV的機會渺茫，相比之下替代i-line或者KrF光刻系統(tǒng)可能性很大。

與光刻機漫長的技術(shù)迭代歷史不同，納米壓印技術(shù)出現(xiàn)于1995年，美國工程院院士、華裔科學(xué)家周郁教授為突破DUV光刻的技術(shù)瓶頸，首次提出了基于高分子模壓工藝的全新超高分辨率（<10nm）的納米結(jié)構(gòu)制造技術(shù)——納米壓印技術(shù)。而得益于佳能此前宣布啟動FPA-1200NZ2c納米壓印半導(dǎo)體制造設(shè)備的消息，納米壓印技術(shù)受到眾多關(guān)注。

壓印本就是古老的圖形轉(zhuǎn)移技術(shù)，打個比方，納米壓印光刻造芯片也像一個手工“蓋圖章”的過程。將柵極長度只有幾納米的電路刻在“印章”（模板）上，再將“印章”蓋在橡皮泥（壓印膠）上，得到與印章相反的圖案后，再將圖形固化，完成微納加工的“雕刻”步驟。

與傳統(tǒng)的光刻技術(shù)相比，納米壓印技術(shù)不需要復(fù)雜的光路系統(tǒng)和昂貴的光源，或許可以大幅降低制造成本。但目前來看，這一技術(shù)路線的產(chǎn)能和效率問題也尚未得到解決。作為對比，光刻系統(tǒng)可以自由調(diào)度生產(chǎn)，在工廠的實際制造流程里，同一臺DUV光刻機在不同時段，可以用于生產(chǎn)不同制程的芯片，通過預(yù)設(shè)生產(chǎn)程序，不同型號的光刻系統(tǒng)也可以實現(xiàn)協(xié)同工作。但在納米壓印技術(shù)下，生產(chǎn)流程則不可避免會顯得有些“機械“和“孤立“，“納米壓印是1:1的，一個模子，才能壓下去一個同樣大小的一個芯片?！?/strong>

納米壓印與光刻原理對比丨來源：電子工程世界

截止目前，這一技術(shù)正在全球范圍內(nèi)迎來關(guān)注，TechNavio數(shù)據(jù)顯示，2026年納米壓印市場有望達到33億美元，2021年至2026年年復(fù)合增長率可達17.74%。納米壓印市場雖然沒有想象中那樣大，但整體正逐漸走強。

在汪波看來，還有一種技術(shù)路徑是電子束光刻。

“電子也是一種波，波長很短，所以也可以去加工更先進制程的芯片?！钡泊嬖诋a(chǎn)能限制、生產(chǎn)效率與生產(chǎn)工藝問題，“電子束刻蝕有點像我們用筆在紙上去寫字，你需要電子束刻蝕出一條一條的線段，它不像光刻一下子照下來，整個晶圓都有。所以盡管它能夠加工出精度更高、更復(fù)雜的結(jié)構(gòu)，但它同樣面臨產(chǎn)能較低的問題?！?/p>

其他技術(shù)路線上，此前流傳的“國產(chǎn)光刻機工廠”雖被證實是一場烏龍，但源自于清華大學(xué)在2017年開啟的SSMB-EUV光源技術(shù)，確實有望帶來新的發(fā)展方向，只是當前這一技術(shù)還不夠成熟，距離真正用于光刻系統(tǒng)還有很長的路要走?！澳壳皝砜矗€處于理論階段”，汪波認為。

除去半導(dǎo)體行業(yè)層面的技術(shù)探索，面對AI產(chǎn)業(yè)所帶來的新一輪可見的“芯片浪潮”，提前謀劃布局，同樣可以進一步避免產(chǎn)業(yè)層面的“步步落后”。

芯片產(chǎn)業(yè)的歷史長河中，所謂依賴新技術(shù)路線“彎道超車”只是個別現(xiàn)象，但從中折射出的客觀規(guī)律依然值得人們的思考——任何物種、技術(shù)和產(chǎn)業(yè)，也都有著時間的周期，而在這基礎(chǔ)上，正如業(yè)內(nèi)人士所總結(jié)的那樣：

“即便是現(xiàn)在最先進的DUV光刻機，未來幾十年以后也終將會被淘汰，所以只要我們尊重科學(xué)，不斷探索，就永遠有可能跟上技術(shù)前進的腳步?！?/p>